来历：Silicon Semiconductor
SkyWater位在明尼苏达的工场旨于拥有世界上开始进的200毫米光刻技能。
SkyWater Technology已经从 Multibeam Corp. 得到首款用在批量出产的多柱电子束光刻 (MEBL) 体系。Multibeam (MB) 平台是半导体行业的里程碑，它提供了一种高吞吐量直接写入图案化体系，其速率比传统电子束装备快几个数目级，出产效率更高。MB 体系将提供应 SkyWater 客户举行初期观点原型设计及快速出产。
“很兴奋能经由过程 Multibeam 革命性技能为客户提供新的光刻功效。MB 平台的部署将为安全防备、生物医学、热成像、高靠得住性及高级计较市场中从观点到出产的立异者拓展能力并缩短产物上市时间。”
MEBL 为 SkyWater 的客户提供多项新的出产能力，包括用在防伪运用的安全芯片 ID 及全晶圆图案化，可撑持焦平面读取 IC 及其他类型的年夜尺寸芯片。MEBL 还有为一系列高拓扑微流体及 MEMS 架构、光子学曲线设计及高密度 MOS 提供年夜聚焦深度。此外，它是独一可以或许于 200 毫米晶圆上实现 50 纳米如下几何外形的出产光刻装备。
MB 平台立异配置了多个小型化电子束柱，将电子束光刻 (EBL) 晋升为冲破性的无掩模光刻出产体系，为现今的 IC 晶圆厂带来了卓着的机能及成本上风。首套 Multibeam 体系的交付是已往两年来与 SkyWater 紧密亲密互助的成果。这次互助还有提供了要害晶圆厂的运营洞察，于将 MB 平台交付给 SkyWater 以前，这些运营洞察是用来界说要害体系的机能规格。
Multibeam 董事长兼首席履行官 David K. Lam 博士暗示：“这对于 Multibeam 来讲是一个主要的里程碑，咱们很是自豪能与 SkyWater 分享这一里程碑。从咱们与 SkyWater 互助之初，他们就撑持咱们从头立异 EBL 以实现多量量出产的方针，并提供了要害的用户不雅点，帮忙咱们加快开发规划并贸易化世界一流的无掩模光刻体系。很是感激与其互助，很兴奋能将咱们的第一个出产装备配置于 SkyWater 晶圆厂。”
SkyWater 首席履行官兼董事 Thomas Sonderman 夸大了这项技能对于方针增加市场客户的价值，“咱们很兴奋可以或许借助 Multibeam 革命性的技能为客户提供新的光刻功效。MB 平台的部署将帮忙安全防备、生物医学、热成像、高靠得住性及高级计较市场中从观点到出产的立异者拓展能力并缩短上市时间。”
Sonderman 增补道：“咱们与 Multibeam 的互助，表现了互助伙伴瓜葛于开发冲破性装备，加快美国芯片立异方面的气力，并借此让 三木SEO-SkyWater 位在明尼苏达州的工场拥有了世界上开始进的 200 毫米光刻技能。”
SkyWater 将于2024年第四序度提供对于为装备首批客户设计的拜候权限。
原文链接：
https://siliconsemiconductor.net/article/119867/SkyWater_invests_in_MEBL
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