2025年1月20日，海关统计数据于线查询平台宣布了2024年13类重要半导体装备入口29367台，同比增长4.6％，入口金额196.12亿美元，同比增加8.5％。
2024年，化学气相沉积装备(CVD)及等离子体干法刻蚀机入口额仍旧是入口金额最年夜的二类半导体系体例造装备，占13类重要半导体装备入口总金额的64.5％。
2024年，离子注入机入口金额增加最快，同比增加35.9％。分步反复光刻机、硅单晶炉及塑封压机等三类半导体装备入口金额别离削减51.1%、41.1%及31.20%。
2024年13类重要半导体装备中国年夜陆入口数据表
装备名称入口量（台）入口金额(万美元)2024年
1-12月
同比增加％2024年
1-12月
同比增加％1硅单晶炉58-37.0%4,872.0-41.1%2研磨机562-8.8%38,264.2-12.2%3切割装备933-18.5%21,919.9-27.0%4化学机械抛光机CMP371-10.2%66,754.40.2%5氧化扩散炉1,669-3.4%209,164.515.6%6化学气相沉积装备CVD1,8363.3%544,348.111.4%7物理气相沉积装备PVD626-1.9%179,623.727.7%8分步反复光刻机240-18.9%81,002.3-51.1%9等离子体干法刻蚀机1,5515.1%52,1045.918.5%10离子注入机55330.1%181,034.735.9%11塑封压机123-35.3%6,334.6-31.1%12引线键合机10,87322.8%61,761.821.2%13集成电路工场专用主动搬运呆板人9,972-4.2%45,107.6-9.1%合 计29,3674.6%1,961,233.78.5%2024年化学气相沉积装备发货地环境表（入口额前五名）
新加坡韩国日本美国马来西亚数目(台)51125753020471入口额(万美元)283,757.482,698.668,901.633,957.330,475.52024年化学气相沉积装备等入口收货地环境表（入口额前五名）
上海市广东省安徽省江苏省北京数目(台)260247273301232入口额(万美元)122,001.784,338.175,654.966,974.658,495.12024年等离子体干法刻蚀机入口发货地环境表（入口额前五名）
日本马来西亚台湾美国韩国数目(台)488161179206101入口额(万美元)217,396.1124,925.186,653.833,113.329,509.12024年离子体干法刻蚀机入口收货地环境表（入口额前五名）
广东省上海市北京戒赌吧市安徽省江苏省数目(台)265247367123219入口额(万美元)133,305.7100,313.968,768.867,825.644,944.22024年氧化扩散炉发货地环境表（入口额前五名）
日本美国新加坡德国韩国数目(台)1,0712498311164入口额(万美元)99,825.759,109.424,239.715,536.76,310.52024年氧化扩散炉收货地环境表（入口额前五名）
上海市广东省北京市江苏省四川省数目(台)34925116833295入口额(万美元)51,266.236,521.726,071.825,242.417,840.02024年离子注入机入口发货地环境表（入口额前三名）
美国韩国日本其他数目(台)429286432入口额(万美元)142682.117019.916245.297.2%2024年离子注入机收货地环境表（入口额前五名）
数目(台)广东省上海市江苏省浙江省北京市数目(台)106112695658入口额(万美元)37959.131780.522321.320273.617999.82024年物理气相沉积装配入口发货地环境表（入口额前五名）
新加坡美国英国中国台湾日本数目(台)1841324110273入口额(万美元)117221.025354.510453.68604.57426.52024年物理气相沉积装配收货地环境表（入口额前五名）
数目(台)广东省上海市江苏省山东省四川省数目(台)1101281242824入口额(万美元)43610.537569.125060.415306.312413.8（数据来自海关统计数据于线查询平台）
2024年1-12月中国制造半导体器件或者集成电路用的呆板和装配入口量和金额增加环境
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